日前，金钼集团科研团队依托承担的公司科研项目，突破了三氧化钼靶材关键制备技术，制备出了满足要求的三氧化钼靶材样品并开始客户的使用认证，为后续该产品的进一步量产化提供了良好的技术支撑和保障。

三氧化钼靶材主要用于溅射制备三氧化钼薄膜，其形成的三氧化钼薄膜可作为阴极电致变色材料。将该电致变色材料镀于玻璃表面可制成智能窗（smart window）用在建筑物上，通过调节电压实现光透过率及太阳光的选择性吸收或透过进而达到调节建筑物内部光能、降低能源损耗的目的。此外，三氧化钼薄膜在可擦写光存储器件、平面显示、化学传感器、激光印刷及光催化领域也具有非常广阔的应用前景。

三氧化钼本身的特性决定了其成型及加工难度大，制备技术要求高。科研团队通过反复的工艺优化和不断的试验论证，最终突破了三氧化钼靶材的成型、烧结及加工技术，解决了其难成型、致密度难以提升的关键技术难题，成功制备出了纯度大于99.95%，长度大于280mm、宽度大于130mm、相对密度大于97%的高致密度三氧化钼靶材样品，样品各项指标赶超目前市场水平。目前，客户已开始该三氧化钼靶材样品的使用性能测评。

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